台積電帶頭推進,從2D走向3D的晶片設計能「拯救」摩爾定律嗎?
彭新 / 何渝婷編譯
2021-11-08 11:10

(示意圖/取自pixabay)

摩爾定律在晶片製造領域會延續下去嗎?當以英特爾、台積電和三星為代表的晶片製造廠商將它證明了數十年之後,回答問題的關鍵已不是「會」與「不會」,而是如何延續下去。

多年以來,在手機、電腦應用的驅動下,台積電、英特爾不斷改進晶片的生產工藝,與英特爾聯合創辦人Gordon Moore 50年前提出的摩爾定律保持一致。然而近年,晶片工藝越來越接近半導體的物理極限,成本也更加高昂,追趕「摩爾定律」愈加困難。

「為什麼說摩爾定律到頭了,因為經濟學上它的成本反而增加了。」 EDA(電子設計自動化)軟體公司Cadence數位與簽核事業部產品工程資深群總監劉淼說道。

粗略計算,以1美元對應製造的電晶體長度計算,2012年的28奈米製程可以製造約20公尺電晶體,到了2014年的20奈米製程,則仍只有20公尺。「光靠這一個層面(先進製程),是不足以支撐摩爾定律繼續往下走的,因為它的成本看不到顯著的降低。」劉淼說。

從設計到製造,越來越多的晶片產業鏈企業開始嘗試新方案。從整個產業來看,產業龍頭台積電投入5奈米及3奈米先進製程時,在先進封裝技術上也持續推進,小晶片(Chiplet)系統封裝正成為台積電主要客戶所看重的技術。兩者對比而言,由於先進製程成本極為昂貴,後者應用趨勢已經變得明顯。

AMD執行長蘇姿丰(Lisa Su)認為,摩爾定律仍然有效,但推進的速度趨緩。過去半導體業靠先進製程微縮,讓晶片體積不變,但電晶體密度倍數提升,如今發展逐漸面臨瓶頸,必須靠Chiplet封裝、異質整合等技術協助智慧微縮下,晶片效能才能提升。

Chiplet近年成為晶片產業的關鍵字。傳統系統單晶片的做法,是每一個組件放在單一裸晶(Die)上,造成功能越多,矽晶片尺寸越大。Chiplet的特點是將大尺寸的多核心設計,分散到個別微小裸晶片,如處理器、模擬組件、儲存器等,再用立體堆疊的方式,以封裝技術做成一顆晶片,類似樂高積木。

實際上,產業界早就意識到3D結構對於延續和「拯救」摩爾定律的意義:面對非常小的設備尺寸,物理定律已成為電晶體技術進步的障礙。

在中國,現任中芯國際副董事長蔣尚義,近年來即致力於Chiplet封裝。此前他在公開場合曾表示,這些年集成電路不斷創新,發展至今摩爾定律已經接近其物理極限,未來改變方向在於整個系統中的瓶頸:封裝與電路板。

「我自己在2009年時就開始做先進封裝,我們希望打破這個瓶頸。」 蔣尚義提及,如有了先進封裝,整個系統架構將完全改變。未來半導體方向將不再是晶片越做越小、功能越來越好、功耗越來越低,而是將一個大的晶片分成小的晶片,再重新組合。

Chiplet系統級封裝技術被視為減緩摩爾定律失效的對策。在台積電宣布與ARM合作了第一個以CoWaS(基板上晶圓上封裝)解決方案,獲得矽晶驗證的7奈米小晶片系統產品後,包括AMD和聯發科也是Chiplet的愛好者。

不過,3D堆疊也意味著設計複雜性大大增加。晶片設計本身作為一個極度複雜的問題,平面佈局往往需要花費數月來微調和優化,Chiplet的堆積木方式,也帶來了新層面的挑戰和更長的設計週期。在管理上,以往晶片的SoC(系統級晶片)設計和封裝團隊各自為戰,帶來合作上的難度。

對此, Cadance試圖給出方案,他們開發的一種新的晶片設計平台,稱為Integrity 3D-IC平台,能在晶片3D設計中開發更強大和更高能效的電腦晶片,同時加快設計時間。

透過熱完整性、功率和靜態時序分析能力,為客戶提供以系統級PPA表現,使之在單一小晶片(Chiplets)中能妥善發揮性能。

在晶片產業中處於上游的EDA軟體公司,轉向推動和支持晶片3D堆疊,有助於晶片3D設計在晶片設計和製造領域加快普及。

在晶片製造領域,台積電與AMD合作,使用7奈米技術生產伺服器晶片,同時基於Chiplet小晶片系統級封裝、新型晶片架構,試圖達到摩爾定律所預期的半導體效能提升效果。同時,在晶片設計上,Cadance也與光子AI晶片公司Lightelligenc合作,將光子晶片和矽晶片進行堆疊,完成高效能的AI晶片設計。

從長期來看,將3D堆疊技術應用於7奈米甚至更高製程,提高各工藝節點設計的性能,並降低功耗,其技術普及令人期待。

不過,3D堆疊或Chiplet技術的普及,仍有很多課題需要進一步研究,如各微小晶片之間的溝通接口傳輸效率及功耗等。但如果成功實現,延續摩爾定律成為可能,甚至一定程度上會成為中國晶片公司走向世界前列的契機。

本文為界面新聞授權刊登,原文標題為「台積電帶頭推進,從2D走向3D的芯片設計能「拯救」摩爾定律嗎?